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標題: 韩S&S Tech投资5849万元開發量產EUV工藝核心材料 [打印本頁]

作者: admin 時間: 2021-5-28 12:35
標題: 韩S&S Tech投资5849万元開發量產EUV工藝核心材料
CINNO Research财產资讯，韩國半导體質料廠商 S&S Tech 加速极紫外線(EUV)焦點質料的開辟和量產。据悉，该廠商今朝在全世界市場上尚未实現贸易化的EUV用 Pellicle 生髪,產物范畴已具有了必定的技能气力。

按照韩媒ETNews業界動静，近日S&S Tech公布通知布告称，為了EUV工藝的焦點質料Blank Mask和Pellicle的開辟和量產，公司决议投资100亿韩元（约5849万人民币）。该笔投资范围至关于S&S Tech的资產(885亿韩元)和年贩賣额(844亿韩元)的11%摆布。

S&S Tech是一家以半导體暴光工藝中利用的Blank Mask質料s出產為主的公司。在用光在硅晶片上反复照耀電路外形的暴光工藝時，會利用Mask質料使光芒能容纳電路外形。将在Mask上刻電路以前的產物称為Blank Mask。

S&S Tech公司已制造了今朝最通用的ArF暴光功课中利用的Blank Mask，并向半导體廠商供给。

公司為应答日趋走向半导體邃密化的EUV期間，将EUV用 Pe llicle和 Blank Mask作為下一代產物推動。

EUV Pellicle

特别是S&S Tech開辟的EUV用Pellicle產物今朝在全世界尚没有实現贸易化的案例。若是可以或许乐成量產的话，将會引發業界很大的存眷。

今朝和EUV用Pellicle道理

Pellicle指半导體系體例造用Mask的“庇护盖”。可用于提高代价昂贵的Mask的操纵率，低落污染度，提高工藝效力。

EUV用Pellicle的技能实現至关坚苦。EUV暴光与傳统的“透光式”暴光分歧，是一种“反射式”的暴光。因為可被所有物资吸取的EUV光的怪异性子，Mask由反射光的物资構成。

若是EUV的Pellicle要放在Mask前阐扬庇护Mask的感化，那末透射EUV光的同時還要具备导出的特征。该技能的难度至关高。

但為了提高出產效力，國表里大都企業纷繁投入開辟，他们认為“总有一天要实現這类技能”。

据傳，今朝台灣Foundry廠商TSMC、日本三井化學、加拿大Teledyne等大都海外廠商都致力于EUV Pellicle的開辟。

此中，S&S Tech在EUV Pellicle開辟方面希望显著。有评价称，EUV光透率到达90%以上就利用于量產線，今朝S&S Tech開辟的產物透射率為88%。

業内助士暗示，“今朝实如今量產線上利用另有一段間隔，但若有需求企業供给帆布，踊跃的帮忙，估计產物量產将很快实現。”

在這次通知布告中，S&S Tech公布的投资竣事日期為来岁6月30日。最先有望在来岁下半年实現量產。

另外一方面，S&S Tech在今朝作為主力產物的ArF用Blank Mask以后，經由過程技能让渡等方法，對EUV用Blank Mask的钻研也至关踊跃。

该范畴除現有强者日本HOYA、AGC Glass外，半导體装备行業排名第一的Applied Materials也投入開辟，成為很有出路的范畴。

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